Ausschreibung: Vergabe PR1146362-2050-P
Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
Kurzbeschreibung(Ready Tender generiert)
Die Fraunhofer-Gesellschaft schreibt den Kauf eines Wafer- und Maskenreinigungsgeräts (IAF-08.3) aus, ein Stück für den Reinraum der ISO-Klasse 4 am Standort in Freiburg. Das Gerät dient der Reinigung von Wafern und Lithographie-Masken (einschließlich Reticles) durch Entfernung von Partikeln größer als 250 nm mittels wässriger und saurer Lösungen. Es muss europäischen Sicherheitsvorschriften für Industrieanlagen entsprechen und prozessmedienresistente Materialien aufweisen.
Details zur Ausschreibung(Ready Tender generiert)
Die öffentliche Ausschreibung umfasst den Kauf eines Wafer- und Maskenreinigungsgeräts (IAF-08.3) in der Menge von einem Stück, ausgeschrieben von der Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., Einkauf B12, mit Lieferort beim Fraunhofer IAF in Freiburg (Tullastraße 72, 79108 Freiburg). Das Gerät ist für die Aufstellung in einem Reinraum der ISO-Klasse 4 konzipiert und muss den europäischen Sicherheitsvorschriften für Industrieanlagen entsprechen, einschließlich einer Eigenerklärung über das Nichtvorliegen von Ausschlussgründen nach § 123 und § 124 GWB.
Das Reinigungsgerät dient der Behandlung von Wafern und Lithographie-Masken (einschließlich Reticles) durch einen Prozess, der an den RCA-Reinigungsstandard angelehnt ist und wässrige sowie saure Lösungen einsetzt, um Partikel und Verschmutzungen effektiv zu entfernen. Die Prozesskammer muss aus prozessmedienresistentem Material bestehen, um sicheres Arbeiten und hohe Langlebigkeit zu gewährleisten, und ist mit einer Absaugung sowie Leckageerkennung auszustatten. Die Anlage muss zuverlässig Partikel größer als 250 nm von (Quarz-)Glas oder Wafern beseitigen, um die erforderliche Reinheit für Prozesse im Reinraum des Fraunhofer IAF zu erreichen und die Prozessausbeute nicht zu beeinträchtigen.
Das Verfahren ist ein offenes EU-weites Verfahren (Vergabenummer PR1146362-2050-P) unter der Haupt-CPV-Nummer 42900000-5 (Industriemaschinen und -geräte). Bewerber müssen Eignungskriterien erfüllen, darunter mindestens drei Referenzen (nicht älter als drei Jahre) für vergleichbare Anlagen zur Reinigung von Wafern und/oder Masken mit wässrigen Lösungen, inklusive Angaben zu Kunden, Kategorie, Gerätebeschreibung und Einsatzzweck, sowie eine Darstellung des Unternehmens (Gründungsjahr, Meilensteine, Mitarbeiterzahl und Leistungen in Textform). Die Ausschreibung zielt darauf ab, eine zuverlässige Lösung für präzise Reinigungsprozesse in der Forschung und Industrie zu sichern.
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