Ausschreibung: Lieferung einer Elektronenstrahl-Lithografieanlage (E-Beam-System)
Kurt-Schwabe-Institut für Mess- und Sensortechnik Meinsberg e.V.
Kurzbeschreibung(Ready Tender generiert)
Das Kurt-Schwabe-Institut für Mess- und Sensortechnik Meinsberg e.V. schreibt die Lieferung, Installation und Inbetriebnahme einer hochauflösenden Elektronenstrahl-Lithografieanlage (E-Beam-System) für Forschung in Mikro- und Nanostrukturierung, Photonik, Nanotechnologie und Sensorik aus. Das System muss eine einstellbare Beschleunigungsspannung von ≤1 kV bis ≥20 kV, hohe Strahlstabilität im Nanometerbereich, präzise Ablenkung sowie Belichtungsmodi wie Vektorschreiben und Raster-Scan bieten und modular für Erweiterungen wie analytische oder Prozessmodule aufgebaut sein. Der Lieferumfang umfasst das komplette System mit Steuerung, unbefristeten Softwarelizenzen, Anwenderschulung und ≥12 Monaten Garantie; optionale Ausstattungen wie erweiterte Detektoren, Proximity-Effekt-Korrektur-Software und hochpräzise Positioniersysteme sind gesondert anzubieten.
Details zur Ausschreibung(Ready Tender generiert)
Die öffentliche Ausschreibung bezieht sich auf die Lieferung, Installation und Inbetriebnahme einer hochauflösenden Elektronenstrahl-Lithografieanlage (E-Beam-System) für das Kurt-Schwabe-Institut für Mess- und Sensortechnik Meinsberg e.V. (KSI Meinsberg). Das System ist speziell für die Forschung im Bereich Mikro- und Nanostrukturierung, Photonik, plasmonische und photonische Strukturen, Dünnschichtsysteme, funktionale Materialien, Resistprozesse, Lithographie, Nanotechnologie und Sensorik konzipiert. Es dient der Herstellung von Strukturen im Nanometerbereich, der Strukturierung von Elektronenstrahlresists auf verschiedenen Substraten, der Erzeugung komplexer 2D- und 3D-Nanostrukturen, präzisen Overlay-Belichtungen für Mehrlagenprozesse sowie der Verarbeitung empfindlicher Materialien wie Polymere oder isolierende Substrate. Darüber hinaus unterstützt es die Forschung und Entwicklung neuer Lithographieprozesse.
Die technischen Mindestanforderungen umfassen eine Elektronenquelle für hochauflösende Lithographie mit einstellbarer Beschleunigungsspannung im Bereich von ≤ 1 kV bis ≥ 20 kV (kontinuierlich bevorzugt), hoher Strahlstabilität, geringem Drift und Strahldurchmesser im Nanometerbereich. Das System muss präzise Strahlablenkung ermöglichen und verschiedene Belichtungsmodi unterstützen, darunter Vektorschreiben, Raster-Scan-Verfahren und optionale kontinuierliche Schreibverfahren für großflächige Strukturierung. Ergänzend sind Funktionen für Datenverarbeitung erforderlich, einschließlich Visualisierung von Layouts und Belichtungen sowie Exportmöglichkeiten in Formaten wie CSV, Bilddateien oder Reports. Die Systemarchitektur sollte modular sein, um Erweiterungen wie analytische Module (z. B. spektroskopische Verfahren, EDX), Prozessmodule (z. B. Abscheidung, Ätzen) oder In-situ-Charakterisierung zu ermöglichen. Umgebungsanforderungen beinhalten Angaben zu Vibrationsschutz, Temperaturstabilität und elektromagnetischer Verträglichkeit (EMV), ggf. mit Vorschlägen für Infrastrukturmaßnahmen.
Der Lieferumfang umfasst das komplette Elektronenstrahl-Lithographiesystem, eine Steuer- und Auswerteeinheit mit PC-System und Monitor (≥ 24 Zoll), unbefristete oder klar definierte Softwarelizenzen, Installationsmaterial sowie umfassende Dokumentation zu Betrieb, Sicherheit und Wartung. Die Installation und Inbetriebnahme erfolgt vor Ort am Standort in Meinsberg, ergänzt durch eine Anwenderschulung von mindestens 2–4 Tagen und eine Garantie von ≥ 12 Monaten. Optionale Ausstattungen, die gesondert angeboten werden müssen, beinhalten erweiterte Detektorsysteme für Bildgebung und Materialcharakterisierung, erweiterte Softwaremodule (z. B. für Proximity-Effekt-Korrektur oder Simulation), Erweiterungen für Probenhandling und Prozessintegration, hochpräzise Positioniersysteme mit Nanometer-Genauigkeit sowie In-situ-Manipulations- und Charakterisierungstools. Zusätzlich sind Serviceleistungen wie ein jährlicher Wartungsvertrag, Fernwartung, werktäglicher Support, Ersatzteilverfügbarkeit für ≥ 10 Jahre und weitere Trainingsangebote anzubieten.
Die Ausschreibung erfolgt als öffentliches Verfahren mit Frist zur Angebotsabgabe am 17.06.2026 bis 20:00 Uhr und Bindefrist bis 13.07.2026. Der Lieferort ist das KSI Meinsberg in Waldheim/Meinsberg, und die Preise richten sich nach den geltenden Vorschriften für öffentliche Aufträge, inklusive 19 % Mehrwertsteuer. Abweichungen von Ausführungsfristen sind gegen Bankbürgschaft möglich.
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